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임영대 (성균관대학교) 이승환 (성균관대학교) 유원종 (성균관대학교) 정오진 (동부하이텍) 이한춘 (동부하이텍)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 한국표면공학회 2009년도 추계학술대회 및 녹색성장 친환경 표면처리 워크숍
발행연도
2009.10
수록면
116 - 117 (2page)

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식각 공정변화 즉 상부 ICP 파워, 반응기 압력, 실리콘 기판 온도변화에 따른 실리콘 딥 비어 (deep via) 의 형상 변화 메커니즘을 연구하였다. 메커니즘을 연구하기 위해 SF?/O₂ 플라즈마에 노출된 실리콘 기판의 공정변화에 따른 표면 온도변화를 실시간으로 측정하여 플라즈마 내 positive ions의 거동을 분석하였다. 실리콘 기판의 표면온도를 상승시키는 주된 요인은 positiveions임을 확인할 수 있 ... 전체 초록 보기

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