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Abstract
要約
INTRODUCTION
PRINCIPLE OF THE METHOD
RESULTS
DISCUSSION
CONCLUSION
REFERENCES
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Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process
동굴
2007 .01
Hydrogen Plasma와 Oxygen Plasma를 이용한 50 ㎚ 텅스텐 패턴의 Oxidation 및 Reduction에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Surface treatment effect of two-dimensional crystals by oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
전자레인지 이용율에 영향을 미치는 관련변인에 대한 분석
대한가정학회지
1986 .01
CFD-Plasma & K-Plasma를 이용한 plasma simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Carbon 계 유기막질 Plasma Etching에 있어 COS (Carbonyl Sulfide) Gas 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Plasma and reactive oxygen species in cells
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
플라즈마 이온 식각공정에서의 미세 식각 형상에 관한 이론적 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1994 .02
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Surface Modification of Single and Few-Layer MoS₂ by Oxygen Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Design of a High Temperature Oven for Measuring the Saturation Intensity of Samarium atom by using Two Wave Mixing
Current Optics and Photonics
2000 .09
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
저손상 식각 기술을 이용한 초미세 패턴의 식각 프로파일 향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
전건법(全乾法)에 의(依)한 목재(木材)의 함수율추정(含水率推定)
목재공학(Journal of the Korean Wood Science and Technology)
1981 .01
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
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