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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이은구 (Bucheon University)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제62권 제9호
발행연도
2013.9
수록면
1,255 - 1,259 (5page)

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A calculation method of the breakdown voltage for the Drain region with the spherical structure in high voltage analog CMOS is proposed. The Drain depletion region is divided into many sub-regions and the doping concentration of each sub-region is assumed to be constant. The field in each sub-region is calculated by the integration of the net charge and the breakdown voltage is calculated using the ionization integral method. The breakdown voltage calculated using the proposed method shows the maximum relative error of 3.3% compared with the result of the 2-dimensional device simulation using BANDIS.

목차

Abstract
1. 서론
2. Drain 영역에서 역방향 항복전압 계산 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (9)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2014-500-002463561