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레이저 리프트 오프(Laser Lift-Off: LLO)는 수직형 LED 제조를 위하여 GaN 또는 AlN 박막을 사파이어 웨어퍼로부터 레이저를 이용하여 제거하는 공정으로 광원, 레이저의 출력 파워를 조절해주는 감쇠기, 빔의 형태를 잡아주는 빔 성형 광학계, 원하는 빔 사이즈를 만들어 주고 빔을 균일하게 섞어주는 빔 균일 광학계, 기판에 투사 이전에 빔을 한번 잘라주는 조리개 부분과 마스크 단에서 잘린 빔을 기판에 투사해주는 투사렌즈 부분으로 구성되어 있다. 본 논문에서는 LLO 시스템을 구성하고 있는 광학계중 감쇠기와 투사렌즈 부분의 설계 및 분석을 진행하였다. 투사렌즈의 7×7 ㎟ 빔 사이즈 구현을 위하여 광학 설계 프로그램인 지맥스를 통해 설계 및 초점심도를 분석하였으며, 조명 설계 프로그램인 라이트 툴을 사용하여 빔 사이즈 및 균일도를 분석하였다. 성능 분석 결과 사각형 빔의 크기 6.97×6.96 ㎟, 균일도 91.8 %, 초점심도 ±30 μm를 확인하였다. 또한 고출력의 엑시머 레이저의 빔 강도를 감쇠시키기 위한 장치인 감쇠기의 투과율을 높이기 위하여 에센설 맥클라우드 코팅 프로그램을 사용하여 유전체 코팅을 실시한 결과 총 23층의 박막과 s 편광의 입사각도 45~60°에서 10-95%의 투과율을 확인 할 수 있었다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 레이저 리프트 오프 시스템
Ⅲ. 감쇠기
Ⅳ. 투사 렌즈
Ⅴ. 결론
References
참고문헌 (11)
참고문헌 신청
Y. J. Kim / 2011 / Design of an excimer laser beam homogenizer for vertical LED manufacturing equipment
C. F. Chu / 2004 / Study of GaN light-emitting diodes fabricated by laser lift-off technique / Appl. Phys 95:3916
C. L. S. Lewis / 1999 / Use of a random phase plate as a KrF laser beam homogenizer for thin film deposition applications / SCI 70:2116
Z. Guoxing / 2005 / A fluctuation-intensitive diffractive optical homogenizer for excimer beam-shaping / Proc. SPIE 5636:499~504
Y. S. Kim / 2010 / Resolution-enhancing techniques based on the modification of source and mask, and their optimization methods in optical lithography
C. F. Chu / 2004 / Study of GaN light-emitting diodes fabricated by laser lift-off technique / Appl. Phys 95:3916
C. L. S. Lewis / 1999 / Use of a random phase plate as a KrF laser beam homogenizer for thin film deposition applications / SCI 70:2116
Z. Guoxing / 2005 / A fluctuation-intensitive diffractive optical homogenizer for excimer beam-shaping / Proc. SPIE 5636:499~504
Y. S. Kim / 2010 / Resolution-enhancing techniques based on the modification of source and mask, and their optimization methods in optical lithography
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