메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
한이슬 (명지대학교) 홍상진 (명지대학교) 한승수 (명지대학교)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 2011년도 대한전자공학회 하계종합학술대회
발행연도
2011.6
수록면
1,171 - 1,174 (4page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
In these day, plasma technology has been widely used for semiconductor fabrication in industry. Because the size of open area becomes smaller than before, how to monitor in real-time the end time of plasma etch becomes more difficult. The Optical emission spectroscopy (OES) is still used for endpoint detection (EPD) since years ago. However, the spectral data such of OES is extensive amount of signals. The purpose of this paper is to propose on learning algorithm of support vector machine (SVM) based on principal component analysis (PCA) that can reduce the amount of data of OES.

목차

Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 구현
Ⅳ. 결론 및 향후 연구 방향
참고문헌

참고문헌 (0)

참고문헌 신청
참고문헌이 DBpia에서 서비스 중이라면, [참고문헌 신청]을 통해 등록해보세요

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
김창목 ,  임노민 ,  이현우 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2017 .08
플라즈마 식각 공정 챔버내의 부품 식각률 감소를 위한 전처리 기술
김유신 ,  박형진 ,  김정환 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2017 .02
플라즈마 식각 공정에서 의사결정 알고리즘을 이용한 실시간 식각 종료점 검출
노호택 ,  박영국 ,  한승수 전기전자학회논문지 2016 .03
플라즈마 식각공정 시 By-product와 Etchant gas를 이용한 식각 종료점 검출
김동일 ,  박영국 ,  한승수 전기전자학회논문지 2015 .12
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1997 .11

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2015-560-001036646