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Min-Chul Sun (Samsung Electronics Co.) Hyun Woo Kim (Seoul National University) Hyungjin Kim (Seoul National University) Sang Wan Kim (Seoul National University) Garam Kim (Seoul National University) Jong-Ho Lee (Seoul National University) Hyungcheol Shin (Seoul National University) Byung-Gook Park (Seoul National University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.14 No.2
발행연도
2014.4
수록면
139 - 145 (7page)

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Control of threshold voltage (V<SUB>T</SUB>) by ground-plane (GP) technique for planar tunnel fieldeffect transistor (TFET) is studied for the first time using TCAD simulation method. Although GP technique appears to be similarly useful for the TFET as for the metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET), some unique behaviors such as the small controllability under weak ground doping and dependence on the dopant polarity are also observed. For V<SUB>T</SUB>-modulation larger than 100 mV, heavy ground doping over 1×1020 cm<SUP>-3</SUP> or back biasing scheme is preferred in case of TFETs. Polarity dependence is explained with a mechanism similar to the punch-through of MOSFETs. In spite of some minor differences, this result shows that both MOSFETs and TFETs can share common V<SUB>T</SUB>-control scheme when these devices are co-integrated.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. MODEL DEVICE AND DEFINITION OF PARAMETERS
III. RESULTS AND DISCUSSION
III. CONCLUSIONS
REFERENCES

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