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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 제20권 2호
발행연도
1997.11
수록면
525 - 528 (4page)

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1998

몬테카를로 계산 방식에 의한 RF 플라즈마 에칭 시스템에서의 이온 분포 계산 ( Calculation of Ion Distributions in an RF Plasma Etching System Using Monte Carlo Methods )
반용찬 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명 전자공학회논문지-D 1998.05 학술저널

1997

RF 에칭 시스템에서 이온의 몬테카를로 시뮬레이션
반용찬 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1997.11 학술대회자료
RF 에칭 시스템에서 이온의 몬테카를로 시뮬레이션 ( Monte Carlo Simulation of Ion in an FR Plasma Etching System )
반용찬 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1997.11 학술대회자료

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