CH4 / H2를 사용한 InP계 광전소자의 건식 식각 공정에 관한 연구 ( Research on the dry etching condition for InP optoelectronic device using CH4 / H2 )

박종대 ,  유지범 ,  박찬용 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

건식 식각기술의 동향분석

박성호 ,  김진섭 ,  강봉구

[ETRI] 전자통신동향분석

1989 .06

초고집적 소자 제조를 위한 건식 식각 기술 동향

권광호 ,  김보우

전자공학회지

1991 .09

디스플레이 공정용 건식 식각 장비의 시뮬레이션 기술

최희환

인포메이션 디스플레이

2015 .01

Direct Wafer Bonding법에 의한 InP 기판과 $\textrm{Si}_3\textrm{N}_4$/InP의 접합특성

김선운 ,  신동석 ,  이정용 외 1명

한국재료학회지

1998 .01

( 100 ) 면 InP 결정 습식 식각 특성 ( Wet Etching Properties of ( 100 ) Surface InP Crystal )

임우택 ,  김우진 ,  김재영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 및 InP의 건식 식각에 관한 연구

정석용 ,  박철희 ,  김성대 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

그래핀 기반 전자소자 및 광전소자 기술

김진태 ,  김기출 ,  유영준 외 4명

[ETRI] 전자통신동향분석

2012 .10

광전달망 분야

박진우

한국통신학회 기타 간행물

1997 .01

P+ -In_0.53Ga_0.47As/InP의 저항성 접촉 특성

김남준 ,  이재혁 ,  김돈수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .06

InP의 습식식각특성과 InP/InGaAs HBT의 제작

김강대 ,  박재홍 ,  김용규 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

InP / InP , InCaAs / InP 의 OMVPE 성장 및 도우핑 특성 ( OMVPE Growths of InP / InP , InGaAs / InP and Doping Characteristics )

박기성 ,  오대곤 ,  주무정 외 1명

특정연구 결과 발표회 논문집

1988 .01

InP / InP , InCaAs / InP의 OMVPE 성장 및 도우핑 특성 ( OMVPE Growths of InP / InP , InGaAs / InP and Doping Characteristics )

박기성 ,  오대곤 ,  주무정 외 1명

한국통신학회 학술대회논문집

1988 .01

C₂C1F₅-O₂혼합가스를 사용한 포토레지스트의 건식식각 특성

최영규 ,  이진희 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1986 .06

고집적 메모리소자의 캐패시터 전극용 백금 박막의 건식 식각 기술

김권식 ,  김형준

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

열로 산화된 InP의 특성에 관한 연구

文東贊 ,  徐英錫 ,  金善泰 외 1명

전기학회논문지

1988 .06

축전결합 $CF_4$/$O_2$/$A_r$ 플라즈마에 의한 Polymethyl methacrylate (PMMA)와 Polycarbonate건식식각 비교

노호섭 ,  박연현 ,  이성현 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2008 .01

광전달망 OVERVIEW

이종현

한국통신학회 워크샵

1997 .01

황처리가 금속 / InP Schottky 접촉과 Si3N4 / InP 계면들에 미치는 영향 ( Effects of Sulfur Treatments on metal / Inp Schottky Contact and Si3N4 / InP interfaces )

허준 ,  임한조 ,  김충환 외 3명

전자공학회논문지-A

1994 .12

BCl 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각

조관식 ,  임완태 ,  백인규 외 2명

한국재료학회지

2003 .01