메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
양경채 (성균관대학교) 박성우 (성균관대학교) 신태호 (성균관대학교) 염근영 (성균관대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제48권 제6호
발행연도
2015.12
수록면
360 - 370 (11page)

이용수

DBpia Top 10%동일한 주제분류 기준으로
최근 2년간 이용수 순으로 정렬했을 때
해당 논문이 위치하는 상위 비율을 의미합니다.
표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
As the size of the semiconductor devices shrinks to nanometer scale, the importance of plasma etching process to the fabrication of nanometer scale semiconductor devices is increasing further and further. But for the nanoscale devices, conventional plasma etching technique is extremely difficult to meet the requirement of the device fabrication, therefore, other etching techniques such as use of multi frequency plasma, source/bias/gas pulsing, etc. are investigated to meet the etching target. Until today, various pulsing techniques including pulsed plasma source and/or pulse-biased plasma etching have been tested on various materials. In this review, the experimental/theoretical studies of pulsed plasmas during the nanoscale plasma etching on etch profile, etch selectivity, uniformity, etc. have been summarized. Especially, the researches of pulsed plasma on the etching of silicon, SiO₂, and magnetic materials in the semiconductor industry for further device scaling have been discussed. Those results demonstrated the importance of pulse plasma on the pattern control for achieving the best performance. Although some of the pulsing mechanism is not well established, it is believed that this review will give a certain understanding on the pulsed plasma techniques.
#Pulse plasma #Pulsing #Etch #MRAM #DRAM

목차

Abstract
1. 서론
2. 펄스 플라즈마
3. 식각공정에서의 펄스 플라즈마
4. 결론
References

참고문헌 (71)

참고문헌 신청
[단행본] - S. Samukawa / 2014 / Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system / Springer Japan google schola [단행본] - M. A. Lieberman / 2005 / Principles of Plasma Discharges and Materials Processing / Hoboken google schola [단행본] - R. Doering / 2007 / Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology / CRC Press google schola [단행본] - P. Chabert / 2011 / Physics of Radio-Frequency Plasmas / Cambridge University Press google schola [학술지(정기간행물)] - S. H. Lee / 2009 / / Plasma Sources Sci. Technol 18 : 025024 ~ google schola

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

반도체 식각 장비 개발의 경쟁력
김남헌 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2016 .05
펄스 플라즈마 기술을 통한 Si trench 의 aspect ratio dependent etching 개선에 대한 연구
김희주 ,  문룡 ,  홍종우 외 4명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021 .12
표면처리 약품의 국산화에 대하여
김동현 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2016 .11
미세 패턴 형성을 위한 공정 약품 및 표면처리 기술
김익범 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2016 .05
Display 소재용 Sputtering Type FCCL의 기술 동향
이만형 ,  류한권 ,  김영태 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2015 .11

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2016-581-002295355