중대형 Display 의 저저항 배선인 Al Gate 배선의 CNT Hole 형성을 위한 Capping Layer 로써 TiN 에 관한 연구

주선진; 조은주

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 주선진 (삼성전자 공과대학교) 조은주 (삼성전자 공과대학교)

저널정보: Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2016년도 춘계학술대회 논문집

발행연도: 2016.5

수록면: 295 - 296 (2page)

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#aluminium #titanium #TiN #gate #resistance #resistivity

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주선진

소속기관 삼성전자 공과대학교

주요연구분야 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

논문수 1 이용수 33

조은주

소속기관 한국정보통신기술협회(TTA)

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 정보통신공학 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

논문수 29 이용수 513

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