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저자정보
곽주환 (국민대학교) 김문영 (국민대학교) 김응천 (다산이엔지) 김도열 (다산이엔지) 장현수 (국민대학교)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2016년도 학술대회
발행연도
2016.12
수록면
3,342 - 3,345 (4page)

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In this study, optimum design of heating line distance in photo resist bake oven was conducted for thermal distribution. Base line FV model and simplified model were developed for validation of base machine’s thermal distribution. Results of two models were compared for verifying feasibility of simplified model. Analysis area was divided by 3 parts through a result of graph which is derived from base line model analysis. Range of design variables was derived from measured value. Model modification was conducted for optimum design based on DOE. Objective function is minimizing of heat distribution on heating plate and optimization was conducted using RSM. Optimal design was confirmed that heat deviation was less than base heating line model.
#Heating line(열선) #Optimal design(최적설계) #Thermal distribution (열 분포)

목차

Abstract
1. 서론
2. 유한 체적 모델 간소화 및 해석
3. 열선 간격 최적화
4. 결론
참고문헌

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