반사형 디지털 홀로그래피를 이용한 허니콤 구조의 회로선 폭 측정

정현일; 신주엽; 이설희; 권익환; 정현철; 김경석

doi:10.7779/JKSNT.2017.37.3.158

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자료유형: 학술저널

저자정보: 정현일 (조선대학교) 신주엽 (조선대학교) 이설희 (조선대학교) 권익환 (포항공과대학교) 정현철 (조선대학교) 김경석 (조선대학교)

저널정보: 한국비파괴검사학회 비파괴검사학회지 비파괴검사학회지 제37권 제3호

발행연도: 2017.6

수록면: 158 - 163 (6page)

DOI: 10.7779/JKSNT.2017.37.3.158

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반도체 제작 시 포토리소그래피 공정은 설계한 전기회로패턴을 기판 위에 옮기는 공정이다. 기판에 가공된 패턴이 설계한 전기회로와 정확히 일치하게 전사되었는지의 여부는 반도체 고집적화 연구에서 매우 중요하며, 주로 AFM, FE-SEM, Alpha Step, CIRCLTM Suite 등의 장비를 이용하여 검사한다. 본 논문에서는 디지털 홀로그래피를 이용한 검사 방법을 제시하였다. 이를 위해 포토리소그래피 공정으로 허니컴 패턴이 제작된 반사형 시험대상체 상에 임의로 9곳의 측정점을 지정하였다. 반사형 디지털 홀로그래피를 이용하여 허니컴 패턴으로 제작된 회로의 선 폭을 측정하고, 그 결과로부터 회로가 설계한대로 정확히 전사되었는지 여부를 확인하였다. 반사형 디지털 홀로그래피로 측정한 결과값의 신뢰성을 확인하기 위하여 통상적으로 쓰이는 검사장치인 AFM과 FE-SEM으로 측정하여 그 결과를 비교, 검증하였다.

#반사형 디지털 홀로그래피 #포토리소그래피 #허니콤 구조 회로 #선 폭 측정 #Reflective Digital Holography #Photolithography #Honeycomb Structured Circuit #Measurement of Line Width

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Electronic Engineering Editing Commission, Electronic Thesaurus, Sungandang (1995)

J. Ahn and S. Lee, Principles of photolithography, Phys&HiTech, Vol. 20. No. 1/2, pp. 2-8, 1225-2336 (2011) D. Gabor, A new microscopic principles, Nature, Vol. 161. No. 4098, pp. 777-778 (1948) S. Tatuoka, Laser and image, Gijeon Researcher, pp. 27-48,74-75 (1993) H. Y. Yun, A study on the phase-shift analysis by intensity correlation modeling and its application to digital holography, Department of Physics, Pohang University of Science and Technology Thesis (2004)

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