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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
신주엽 (조선대학교) 김경석 (조선대학교) 정현철 (조선대학교)
저널정보
한국비파괴검사학회 비파괴검사학회지 비파괴검사학회지 제40권 제1호
발행연도
2020.2
수록면
9 - 15 (7page)
DOI
10.7779/JKSNT.2020.40.1.9

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ITO 박막은 높은 가시광 투과율과 높은 전기전도성을 동시에 가지고 있어 디스플레이의 투명 전극으로 사용되는 소자이다. 이러한 ITO 투명 전극은 사용 목적에 따라서 박막을 형성하기 위해 물리적인 방법 또는 화학적인 방법으로 제작된다. 본 논문에서는 ITO 증착 높이를 측정하기 위해, PVD 방법을 이용하여 ITO 박막 패턴을 제작하였다. 먼저, In-line 방식의 마그네트론 스퍼터링 기법을 이용하여 150, 160, 170, 180, 190, 200nm 높이로 유리기판 위에 ITO 박막을 증착한 후, 포토리소그래피 공정으로 패턴을 가공하였다. ITO 박막 패턴의 증착 높이에 대한 비파괴 측정을 위해 디지털 홀로그래피 시스템을 구성하여 측정하였으며, FE-SEM 측정 결과와의 비교를 통해 제안한 기술의 신뢰성을 검증하였다.

목차

초록
Abstract
1. 서론
2. 디지털 홀로그래피
3. 증착 단차 측정 실험
4. 실험결과 및 고찰
5. 결론
References

참고문헌 (10)

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