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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.10
- 수록면
- 9 - 12 (4page)
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특정 광 파장 영역대역에서 광 반사율을 갖는 다층 박막을 DC펄스 스퍼터링 공정으로 제작하기 위하여 공정변수가 다층 박막의 광학 특성에 미치는 영향이 연구되었다. 다층 박막 필름을 제작하기위한 시뮬레이션이 이루어졌으며, DC펄스 스퍼터링 공정을 이용한 저 굴절률의 SiO2와 고 굴절률의 TiO2 박막의 광학 특성에 미치는 공정 변수 파라미터가 연구되었다. DC펄스 스퍼터링 파워 2kW, 아르곤 가스 200sccm(standard cubic centimeter per minute)기준조건에서 산소가스 비율 12% 범위에서 제작한 SiO2박막은 굴절률 1.46이었고 산소가스 1% 비율에서 제작한 TiO2박막은 굴절률 2.27이었다. 이들 박막으로 구성된 고 굴절률 박막/저 굴절률 박막/고 굴절률 박막의 3층 다층 박막 구조의 광학설계 시뮬레이션 결과와 측정된 광반사율 특성결과는 파장 대역에 걸쳐 유사한 경향이 있는 것으로 측정되었다. 근적외선 780nm에서 1200nm파장 대역 영역에서 광 반사율 45%이상의 성능을 갖는 다층 박막 필름을 제작할 수 있었고 근적외선 차단 기능 박막으로 사용될 것으로 기대된다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
References
참고문헌 (7)
참고문헌 신청
[학술지(정기간행물)] - M. Laamanen / 2010 / Thin film absorbers for visible, near-infrared, and short-wavelength infrared spectra / Sensors and Actuators A: Physical 162 (2) : 210 ~ 214
[학술지(정기간행물)] - Jitka Mohelnikova / 2009 / Materials for reflective coatings of window glass applications / Construction and Building Materials 23 (5) : 1993 ~ 1998
[학술대회논문] - D. Carter / 2002 / Parameter Optimization in Pulsed DC Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide / 2002 Society of Vacuum Coaters, 45th Annual Technical Conference Proceedings : 570 ~ 577
[학술대회논문] - D. R. Pelleymounter / 2014 / Pulsed DC power for magnetron sputtering / 57th annual technical conference proceeding : 183 ~ 118
[학술대회논문] - A.Belkind / 2000 / Pulsed DC reactive sputtering of Dielectric / 43rd Annual technical conference proceeding 4 : 86 ~ 90
[학술지(정기간행물)] - Jitka Mohelnikova / 2009 / Materials for reflective coatings of window glass applications / Construction and Building Materials 23 (5) : 1993 ~ 1998
[학술대회논문] - D. Carter / 2002 / Parameter Optimization in Pulsed DC Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide / 2002 Society of Vacuum Coaters, 45th Annual Technical Conference Proceedings : 570 ~ 577
[학술대회논문] - D. R. Pelleymounter / 2014 / Pulsed DC power for magnetron sputtering / 57th annual technical conference proceeding : 183 ~ 118
[학술대회논문] - A.Belkind / 2000 / Pulsed DC reactive sputtering of Dielectric / 43rd Annual technical conference proceeding 4 : 86 ~ 90
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