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Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
강유전체 메모리의 르네상스: 게임체인저가 될 수 있을까?
물리학과 첨단기술
2021 .09
Switching dynamics analysis based on Landau-Euler model in the multi-domain doped HfO₂ ferroelectric thin films
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Electrical properties of Zr-doped HfO₂ in ferroelectric tunnel junction memory
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
강유전체 백년
물리학과 첨단기술
2021 .09
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
용액 공정을 통한 HfO2/ZrO2 구조 차이에 따른 Dielectric layer의 특성 변화 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
강유전체 연구의 새로운 도전
물리학과 첨단기술
2021 .09
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Frequency Varied Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO₂/Si Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Emulation of synaptic behavior by ferroelectric polymer
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Dielectric Characteristics of BaTiO₃ Solid Solution Substituted with Nb5+, Ta5+, Bi3+, and Sb3+ Ions
Applied Science and Convergence Technology
2023 .09
Stabilization of the Perovskite Phase and Electrical Properties of Ferroelectrics in the Pb₂(Sc,Nb)O6 System
Applied Science and Convergence Technology
2015 .11
Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
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