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Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Transfer Characteristics Comparison of HfO₂ Al₂O₃ Deposited InGaZnO Thin Film Transistors
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
용액 공정을 통한 HfO2/ZrO2 구조 차이에 따른 Dielectric layer의 특성 변화 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
H₂O₂ effects of HfO₂ dielectric layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
A Study of the Change in the Magnetic Anisotropy Depending on Deposition Conditions of Pt/Co/HfO thin Films
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2024 .05
Frequency Varied Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO₂/Si Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Pt/Cr/HfO₂/Pt/Cr/HfO₂/SiO₂/Si 게이트 적층구조를 가지는 시냅틱 소자의 전기적 특성 연구
새물리
2023 .10
Effect of Annealing Temperature and Annealing Time on Electrical Properties of HfZrO₄ Dielectric
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Applying dual gate voltage to graphene FET with ion-gel gate dielectric
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Microwave Annealing Effect of Low Thermal Budget on HfO₂ MOS Capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Impact of impurities and annealing conditions on the characteristics of Si/HfO₂:Al/TiN ReRAM devices
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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