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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2005.1
- 수록면
- 226 - 230 (5page)
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This paper describes the photocatalytic degradation properties by oxygen partial pressure for TiO2 thin films fabricated by dc magnetron reactive sputtering. And the structural, chemical, optical and photocatalytic properties were investigated at various analysis system. When TiO2 thin film was made at deposition time of 120 min and Ar:O2 ratio of 60:40, the best properties were obtained. That results were as follows: thickness; 360～370 nm, grain size; 40 nm, optical energy band gap; 3.4 eV and Benzene conversion in the photocatalytic degradation; 11 %.
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/ 1902. / Bestiimmung der dielektricitats- konstanten von krystallen mit elektrischen wellen 9 : 919 ~
/ 1994. / Sol- gel 법에 의한 TiO2 박막의 제작과 전기적 특성에 관한 연구 7 (4) : 325 ~
/ 1998. / Deposition of SiO2 and TiO2 thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition for antireflection coating 11 (12) : 77 ~
/ 2000. / Mass spectrometry and absorption spectro- scopy for oxidation of titanium target in rf magnetron sputtering 59 (23) : 600 ~
/ 2000. / Spectroscopic ellipsometry of TiO2 layers prepared by ion-assisted electron-beam evaporation 360 (12) : 96 ~
/ 1994. / Sol- gel 법에 의한 TiO2 박막의 제작과 전기적 특성에 관한 연구 7 (4) : 325 ~
/ 1998. / Deposition of SiO2 and TiO2 thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition for antireflection coating 11 (12) : 77 ~
/ 2000. / Mass spectrometry and absorption spectro- scopy for oxidation of titanium target in rf magnetron sputtering 59 (23) : 600 ~
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