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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제26권 제4호
발행연도
2013.1
수록면
321 - 324 (4page)

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본 실험에서는 RF magnetron sputter와 evaporator을 이용하여 low-e에 응용할 다층박막 OMO 구조를 30 mm × 30 mm 유리기판위에 제작하였다. 제작된 박막은 구조적, 광학적 특성을 분석하였으며, 변수로는 산화물 층의 증착시간을 변수로 두었다. XRD 측정결과 Bragg`s 법칙(2dsinθ= nλ)을 만족하는 피크가 없어 비정질 구조임을 확인할수 있었다. AFM 측정 결과 RMS 값은 2 nm 이하의 거칠기를 갖으며, 투과도 측정 결과 가시광 영역에서는 평균80%, IR영역에서는 40% 이하의 투과율을 보였다.

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