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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Kihyun Kim (Hannam University) Seong-Ho Choi (Hannam University) Seungho Lee (Chemtree) Woonjung Kim (Hannam University)
저널정보
한국분석과학회 분석과학 분석과학 제32권 제5호
발행연도
2019.10
수록면
173 - 184 (12page)

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As the size of semiconductors becomes smaller, it is necessary to perform high precision polishing of nanoscale. Ceria, which is generally used as an abrasive, is widely used because of its uniform quality, but its stability is not high because it has a high molecular weight and causes agglomeration and rapid precipitation. Such agglomeration and precipitation causes scratches in the polishing process. Therefore, it is important to accurately analyze the size distribution of ceria particles. In this study, a study was conducted to select dispersants useful for preventing coagulation and sedimentation of ceria. First, a dispersant was synthesized and a ceria slurry was prepared. The defoamer selection experiment was performed in order to remove the air bubbles which may occur in the production of ceria slurry. Dynamic light scattering (DLS) and asymmetrical flow field-flow fractionation (AsFlFFF) were used to determine the size distribution of ceria particles in the slurry. AsFlFFF is a technique for separating nanoparticles based on sequential elution of samples as in chromatography, and is a useful technique for determining the particle size distribution of nanoparticle samples. AsFlFFF was able to confirm the presence of a little quantities of large particles in the vicinity of 300 nm, which DLS can not detect, besides the main distribution in the range of 60-80 nm. AsFlFFF showed better accuracy and precision than DLS for particle size analysis of a little quantities of large particles such as ceria slurry treated in this study.
#Chemical mechanical Polishing (CMP) #slurry #Ceria #particle size distribution #Asymmetrical flow field-flow fractionation (AsFlFFF) #Dynamic light scattering (DLS)

목차

Abstract
1. Introduction
2. Theory
3. Experimentation
4. Results and Discussion
5. Conclusions
References

참고문헌 (31)

참고문헌 신청
Y. Ahn, J. Y. Yoon, C. W. Baek, and Y. K. Kim, Wear, 257(7-8), 785-789 (2004). google schola Y. Wang, Y. W. Zhao, and X. Chen, Materials and Manufacturing Processes, 27(6), 641-649 (2012). google schola D. Bozkaya and S. Muftu, J. Electrochem. Soc., 156(12), 890-902 (2009). google schola M. Krishnan, J. W. Nalaskowski, and L. M. Cook, Chem. Rev., 110(1), 178-204 (2010). google schola Y. J. Seo, S. Y. Kim, Y. O. Choi, Y T. Oh, and W. S. Lee, Mater Lett., 58(15), 2091-2095 (2004). google schola

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