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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2002.9
- 수록면
- 141 - 150 (10page)
이용수
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낮은 산소 부분압과 긴 타깃-기판 거리에서 DC 반응이온 마그네트론 스퍼터링(reactive magnetron sputtering; RMS) 방법으로 TiO₂ 박막을 증착하였으며, 증착되는 박막에 end-Hall 이온 소스를 이용하여 아르곤 이온빔 보조 증착을 해 주었다. TiO₂ 박막의 광학적 특성은 분광광도계에서 측정된 투과율과 반사율 스펙트럼을 이용하여 분석하였고, 구조적 특성은 AFM과 XRD를 이용하여 분석하였다. 이온빔 보조 RMS 방법으로 증착된 TiO₂ 박막은 일반적인 RMS로 증착된 박막보다 조밀도가 높고, 흡수가 낮으며, 표면거칠기가 작았다. 본 연구에서는 이온빔 보조 RMS 방법이 유전체 광학박막 코팅에 적용될 수 있음을 보여준다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험 결과 및 논의
4. 결론
감사의 글
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