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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제7권 제2호
발행연도
1998.5
수록면
77 - 81 (5page)

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RHEED(Reflection High Energy Electron Diffraction)상(pattern)의 거울반사점(specular spot) 강도의 주기적인 진동을 이용하여, 계면금속(surfactant)Sn을 흡착하지 않은 경우와 흡착한 경우 Ge(111) 표면 위에서 Ge의 층상성장을 조사하였다. 계면금속을 흡착하지 않았을 경우, 기판온도 200℃에서 반점의 강도가 24ML 정도 안정되게 진동하는 것으로 보아, Ge 층상성장의 최적온도로 생각되었다. 계면금속(Sn) 0.5 ML를 Ge(11l) 표면위에 흡착시킨 후, Ge 성장에서는 기판온도 200℃에서 성장초기에 불규칙한 진동이 나타났으며, 반점강도의 주기적인 운동이 흡착하지 않은 경우 보다 더 큰 진폭으로 38ML 이상까지 관찰되었으며 Ge이 성장하는 동안 d2×2 구조의 변화가 없었다. 이는 계면금속이 교환작용으로 성장표면 쪽으로 편석(segregation)하면서 흡착원자의 표변확산 거리를 저해시켜 3차원적 핵성장에 의한 층상성장을 저해하고 대신 2차원적 성장을 도우는 것으로 생각된다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험 방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

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