분광타원법을 이용한 스퍼터된 V₂O₅ 박막의 성장특성 조사

임성택; 강만일; 이규성; 김용기; 류지욱

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자료유형: 학술저널

저자정보: 임성택 강만일 이규성 김용기 류지욱

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제16권 제2호

발행연도: 2007.3

수록면: 134 - 140 (7page)

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V₂O? 박막의 성장특성을 분석하기 위해 RF 스퍼터링 시스템으로 C-Si 기판에 10 %와 0 %의 산소 분압비로 시료를 제작하였다. 구조적 특성의 분석을 위해 SEM과 XRD 측정을 실시하였고, 위상변조방식의 분광타원계를 이용하여 0.75～4.0 eV 범위에 걸쳐 타원상수를 측정하였다. 측정된 타원상수 분석을 위해 상용화된 분석용 프로그램인 DeltaPsi2를 이용하여, Double Amorphous 분산관계식으로 최적 맞춤 하였다. SEM과 XRD 측정결과 시료의 표면 및 결정 상태는 비정질임을 확인하였고, 타원상수의 분석에 의해 V₂O?층의 두께, void비율, 표면 거칠기를 알 수 있었다. 또한 SEM 측정치와 비교한 결과 두 시료의 두께와 표면 거칠기의 결과가 잘 일치함을 확인 하였다

#V₂O₅ #분산관계식 #스퍼터링 시스템 #분광타원법 #dispersion relation #sputtering system #spectroscopic ellipsometry

참고문헌 (6)

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1. [학술지(정기간행물)] - / 1978 / Phase Transition in Solids

2. [학술지(정기간행물)] - / 2000 / Ellipsometry

3. [학술지(정기간행물)] - / 2000 / Ellipsometry

4. [학술지(정기간행물)] - / 2003 / Spectroscopic Ellipsometry

5. [학술지(정기간행물)] - / 2004 / M. Eng. Thesis

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