흡착원자의 덮임율에 따른 Ag/Si(111) √3×√3의 구조 변화

정호진; 정석민

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저자정보: 정호진 정석민

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제17권 제5호

발행연도: 2008.9

수록면: 387 - 393 (7page)

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제일원리계산 방법을 이용하여 Ag/Si(111) √3×√3 (이후로 √3-Ag로 표시) 표면에 은 원자가 추가로 흡착된 표면의 원자구조와 에너지를 조사하였다. 은의 덮임율을 0.02 ML에서 0.14 ML로 변화시켜가며 구조변화를 살펴보았다. 흡착된 은 원자들은 대부분 √3-Ag 표면의 은 원자층의 작은 삼각형(ST)의 중간에 자리 잡았다. 특이한 것은 은 원자들은 은 원자층 보다 아래로 내려간다는 것이다. 은 흡착원자(adatom)의 덮임율이 증가함에 따라 adatom들은 클러스터를 만들려는 경향을 보였다. 은 흡착원자들이 모인 클러스터의 에너지를 계산해 보면 흡착원자가 세 개일 때 가장 안정됨을 알 수 있었다. 이 삼원자 클러스터를 구성 단위로 하여 √21×√21 구조의 원자구조를 결정할 수 있었다. 각 덮임율에서 가장 에너지가 낮은 구조들에 대한 STM 영상을 시뮬레이션 해 보면 은 원자는 찬 상태에서 어둡게 보였다. 이는 은 원자가 기판으로 전하를 제공해 줌을 의미한다. 그리고 원자층의 구조변화가 STM 실험에서 보이는 미세한 특성까지도 잘 설명하였다.

#Ag/Si(111) √3×√3 #2차원 전자기체(2DEG) #흡착원자(adatom) #제일원리계산 #주사터널링형미경(STM) #Two-dimensional electron gas(2DEG) #Adatom #First-principles calculation #Scanning-tunneling microscopy

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