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저자정보
Song, Jean-Ho (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Park, Hong-Sick (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Kim, Sang-Gab (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Cho, Hong-Je (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Jeong, Chang-Oh (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Kang, Sung-Chul (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Kim, Chi-Woo (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.) Chung, Kyu-Ha (AMLCD Division, Device Solution Network, Samsung Electronics Co. Ltd.)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
발행연도
2002.1
수록면
552 - 555 (4page)

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In order to achieve higher performance and low cost a-Si TFT-LCD panel, new material architecture and its process integration for a-Si TFT array manufacturing method were developed. Material combination of low resistant dry-etchable metal and new pixel electrode under currently adopted 4 mask process made it possible to get more-simplified manufacturing method and better device performance for the a-Si TFT-LCD application. Proposed 4 mask process architecture with optimized wet etchants and dry etching process was applicable to various devices such as notebook, monitor and TV.

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