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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
이형주 (한양대학교 응용물리학과) 이정환 (한양대학교 응용물리학과) 서주빈 (한양대학교 응용물리학과) 경재선 (한양대학교 응용물리학과) 안일신 (한양대학교 응용물리학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2006년도 춘계학술대회
발행연도
2006.1
수록면
172 - 176 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2006

Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구
이형주 ,  이정환 ,  서주빈 외 2명 반도체및디스플레이장비학회지 2006.01 학술저널
Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구
이형주 ,  이정환 ,  서주빈 외 2명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2006.01 학술대회자료

초록· 키워드

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본 논문에서는 물을 이용한 193nm immersion lithography에서 물이 photoresist(PR)에 흡수되는 현상을 측정하기 위하여 타원해석기(Ellipsometer)의 응용 가능성을 연구하였다. 물이 PR 에 흡수됨에 따라 swelling 현상이 발생하여 두께 증가로 나타났는데 이는 실시간 타원해석기를 적용하여 시간에 따른 두께 변화를 분석함으로써 그 반응정도를 분석해 낼 수 있었다. 또한 짧은 시간에 발생하는 물의 흡수 현상은 imaging 타원해석기론 이용하여 규명할 수가 있었다.

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