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RTP로 $N_2$O 분위기에서 제조한 Oxynitride Gate 절연체의 물질적 전기적 특성
한국재료학회지
1992 .01
N₂O 가스에서 열산화에 의해 형성된 oxynitride막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
플라즈마 실리콘 OXYNITRIDE막의 구조적 특성에 관한 고찰
전기학회논문지
1992 .05
플라즈마 CVD 방법에 의한 oxynitride막의 특성에 관한 고찰
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
EFFECTS OF $N_2O$ PRESSURE ON THE CHARACTERISTICS OF ULTRA-THIN GATE OXYNITRIDE
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Laser CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 특성에 관한 고찰
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .07
PLASMA SILICON OXYNITRIDE 막의 DEPOSITION 조건에 따른 막의 구조적 특성 고찰 ( A Study on the Structure Characteristics of Plasma Silicon Oxynitride Film According to Deposition Condition )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
레이저 CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 기판세정법에 따른 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
습식 산화한 LPCVD Silicon Nitride층의 물리적, 전기적 특성
한국재료학회지
1994 .01
PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
Influence of moisture on the electrical instability of zinc oxynitride thin-film transistors
대한전자공학회 학술대회
2019 .06
Characterization of Silicon Oxynitride Film by Plasma CVD
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1992 .01
Characteristics of Silicon Oxynitride Barrier Films on Flexible Polymer Substrates
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
High Performance Thin-Film Transistors Based on Zinc Oxynitride Semiconductors: Experimental and First-Principles Studies
한국재료학회지
2016 .01
Electrical and Corrosion Properties of Titanium Oxynitride Films Prepared by Inductively Coupled Plasma Assisted Reactive Sputtering
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Furnace에서 N2O 가스로 성장시킨 게이트 산화막의 전기적 특성 ( Electrical and Reliability Characteristics of Ultrathin Oxynitride Gate Dielectric Prepared by Furnace in N2O )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
Oxidation Behavoir and Electrical Characteristics of Ultrathin Oxynitride in RTP System
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Oxynitride Films Deposition and Characteristics by Eximer Laser CVD
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
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