플라즈마 CVD 방법에 의한 oxynitride막의 특성에 관한 고찰

서강원 ,  백광균 ,  권정열 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .07

PLASMA SILICON OXYNITRIDE 막의 DEPOSITION 조건에 따른 막의 구조적 특성 고찰 ( A Study on the Structure Characteristics of Plasma Silicon Oxynitride Film According to Deposition Condition )

이철진 ,  성영권 ,  안용철

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

플라즈마 실리콘 OXYNITRIDE막의 구조적 특성에 관한 고찰

成英權 ,  李鐵眞 ,  崔福吉

전기학회논문지

1992 .05

Laser CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 특성에 관한 고찰

김창덕 ,  신상우 ,  정문남 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1996 .07

레이저 CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 기판세정법에 따른 특성에 관한 연구

김창덕 ,  이상권 ,  김태훈 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .07

Characterization of the ultra thin films of silicon oxynitride deposited by plasma-assisted $N_2O$ oxidation for thin film transistors

Hwang ,  Sung-Hyun ,  Jung 외 19명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2006 .01

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

N₂O 가스에서 열산화에 의해 형성된 oxynitride막의 특성

배성식 ,  이철인 ,  최현식 외 4명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .07

Characteristics of Silicon Oxynitride Barrier Films on Flexible Polymer Substrates

Do Kyung Lee ,  Han Jae Shin ,  Young Tae Kim

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Oxynitride Films Deposition and Characteristics by Eximer Laser CVD

김창덕 ,  김영호 ,  신상우 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석

조유정 ,  한길진 ,  김영철

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

습식 산화한 LPCVD Silicon Nitride층의 물리적, 전기적 특성

이은구 ,  박진성

한국재료학회지

1994 .01

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

조성변화에 따른 PECVD SiON 박막의 물성특성

조유정 ,  한길진 ,  김영철 외 1명

반도체및디스플레이장비학회지

2005 .01

Deposition of Plasma Polymerized Films on Silicon Substrates Using Plasma Assisted CVD Method For Low Dielectric Application

M. C. Kim ,  S. H. Cho ,  J. H. Boo 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .06

CO₂ Laser-induced CVD법에 의한 Silicon 박막 및 p-n접합 Silicon제작

최원국 ,  정광호 ,  김웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .11

RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )

황정태 ,  정창영 ,  정관수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1989 .11

Control of plasma CVD films containing group IV nanoparticles

Masaha ,  u Shi ,  atani 외 8명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

RTP로 $N_2$O 분위기에서 제조한 Oxynitride Gate 절연체의 물질적 전기적 특성

박진성 ,  이우성 ,  심태언 외 1명

한국재료학회지

1992 .01