Al thin films of high density deposited with magnetron sputtering

Ji Hoon Yang ,  Jae-Hun Jung ,  Min-A Song 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

R.F. sputtering법에 의해 제조된 Ti기 세라믹 박막의 미세조직 및 파괴특성

장동휘 ,  이병택 ,  박상식

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

A Study on the properties of aluminum nitride films on the Al7075 deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering

Jung-hyo Kim ,  Byung-Chul Cha ,  Keun-Hak Lee 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2012 .11

Reactive sputtering법으로 증착한 Pb(Zr, Ti)$O_3$ 박막의 전기적 성질에 관한 연구

조능호 ,  김호기

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

조성 변화에 따른 Ti 화합물의 색상 변화

이영민 ,  장승현 ,  양지훈 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Effect of microstructure on mechanical properties of Ti-Al-N thin films synthesized by magnetron sputtering techniques

Young Dae Jo ,  Kwang Ho Kim

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

D.C. Magnetron Sputter를 이용한 (Ti, Al)N 피막의 조성 및 조직특성연구

최장현 ,  이상래

한국표면공학회지

1992 .11

The properties of (Ti,Al)N coatings deposited by inductively coupled plasma assisted d.c. magnetron sputtering

박홍식 ,  정동하 ,  나형돈 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2000 .11

CRYSTALLINE PHASES AND HARDNESS OF (Ti₁-xAlx)N COATINGS DEPOSITED BY REACTIVE SPUTTERING

Chong Kwan Pa ,  k ,  Joo Dong Pa 외 2명

한국표면공학회지

1996 .10

Electrical Properties and Microstructures in Ti Films Deposited by TFT dc Sputtering

Han ,  Chang-Suk ,  Jeon 외 1명

한국재료학회지

2016 .01

D.C. Magnetron Sputter를 이용한(Ti, Al)N 피막의 고온산화특성

최장현 ,  이상래

한국표면공학회지

1992 .11

Characteristics of Ti-O-N thin film prepared by reactive magnetron sputtering

Tae Woo Kim ,  Jang Sick Pa ,  k 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2004 .05

2 상 Ti-6Al-4V 합금, 준단상 Ti-6.85Al-1.6V 및 단상 Ti-7.0Al-1.5V 합금의 고온 변형거동에 관한 연구

김정한 ,  염종택 ,  박노광 외 1명

소성·가공

2005 .11

고주파 마그네트론 스퍼터장치로 증착한 Ti 박막의 특성에 관한 연구

배창환 ,  이주희 ,  한창석

열처리공학회지

2009 .01

반응성 RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 TiN_x 상온 성막에 있어서 기판 상의 펄스상 직류 바이어스 인가 효과

김세기

한국표면공학회지

2019 .12

Effects of sputtering gas on the film structure and mechanical properties for the preparation of CNx films by reactive sputtering

Tomoyasu Shi ,  oya ,  Yukihi 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

D. C Magnetron Sputter을 이용한 (Ti,Al)N피막의 조성 및 조직특성연구

최장현 ,  이상래

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1992 .10

Microstructure and mechanical properties of superhard Ti-B-C-N films deposited by dc unbalanced magnetron sputtering

정다운 ,  김광호

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .10

Ti_0.75Al_0.25N과 Ti_0.69Al_0.23Si_0.08N 코팅공구의 고속 볼 엔드밀링에서 산화거동에 따른 유용성 연구

신석훈 ,  강명창 ,  강익수 외 2명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2007 .05

소형 Magnetron Sputtering 방법에 의한 썬글라스 렌즈용 Ti 박막의 특성연구

박문찬 ,  정부영 ,  이종근 외 2명

한국안광학회지

2008 .03