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PROPERTIES OF THE CRYSTALLINE POLYIMIDE FILM DEPOSITED BY IONIZED CLUSTER BEAM
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
Cu/Ti/Si 다층 박막의 증착조건에 따른 Cu 박막의 특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
TEM STUDY OF $Y_2O_3$ FILMS GROWN ON Si(111) BY IONIZED CLUSTER BEAM
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
반도체 평탄화 기술
발명특허
2007 .01
0.5μm에 대응하는 평탄화 기술의 현황과 과제
전자공학회지
1990 .08
플라스틱 기판의 TCO박막 평가방법 및 기판에 관한 연구
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2009 .10
Cu 배선의 평탄화를 위한 ECMD에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
Cu배선을 위한 Ta-Si-N Barrier에 관한 연구
한국재료학회지
1997 .01
RTCVD법을 이용한 Si(111)기판 위에 3C-SiC(111) 박막의 성장 및 분석
한국재료학회지
1997 .01
이온화 클러스터 빔 증착의 박막 형성 기구에 관한 연구
공업화학
1996 .01
Deposition of polycrystalline Si thin film on glass substrates by using a direct negative Si ion beam source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
고품질 Cu 박막 형성을 위한 폴리머 기판상 표면처리 기술 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2016 .11
Growth and Structural Properties of Fe Thin Films Electrodeposited on n-Si(111)
한국정보통신학회논문지
2006 .09
CVD법에 의한 Si(111) 기판에 YBaCuO계 초전도 박막의 제조
공업화학
1997 .01
코발트/내열금속 이중박막을 이용한 $CoSi_{2}$ 에피박막형성에 관한 연구
한국재료학회지
1995 .01
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