DEPOSITION AND CHARACTERIZATION OF YN THIN FILMS

Xiao, Shiqing; Takai, Osamu

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자료유형: 학술저널

저자정보: Xiao, Shiqing (Department of Materials Processing Engineering, Nagoya University) Takai, Osamu (Department of Materials Processing Engineering, Nagoya University)

저널정보: 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Fabrication and Characterization of Advanced Materials 제2권 제4호

발행연도: 1995.1

수록면: 619 - 623 (5page)

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YNx films were prepared by the rf reactive ion plating method. The composition of the films were altered by changing the rf power and Ar/$N_2$ ratio. The films exhibited metallic and semiconductive electrical conductive behavior depending on the film composition. The hardness of the films reached HD900, which meant that the films were harder than sodalime glass. The XPS result revealed the chemical shifts of 2.6eV for the Y 3d peak and -1.9eV for the N ls peak by the formation of Y-N bonds.

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Xiao, Shiqing

소속기관 Department of Materials Processing Engineering, Nagoya University

주요연구분야 공학 > 재료·에너지공학 > 재료공학

논문수 1 이용수 0

Takai, Osamu

소속기관 Department of Materials Processing Engineering, Nagoya University

주요연구분야 공학 > 재료·에너지공학 > 재료공학

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