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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
권나현 (부산대학교 재료공학부) 김회봉 (부산대학교 재료공학부) 황빈 (부산대학교 재료공학부) 배동수 (동의대학교 신소재공학과) 조영래 (부산대학교 재료공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제21권 제3호
발행연도
2011.1
수록면
174 - 179 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

2011

DC 스퍼터로 증착한 금속박막의 실시간 전기저항 측정과 유착두께에 관한 연구
권나현 ,  김회봉 ,  황빈 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2011.02 학술대회자료
마그네트론 스파터시 금속 극박막의 실시간 전기저항과 미세구조 변화
권나현 ,  김회봉 ,  황빈 외 2명 한국재료학회지 2011.01 학술저널

2010

DC 마그네트론 스퍼터법에 의해 증착한 금속박막의 실시간 면저항 변화 특성연구
권나현 ,  김회봉 ,  박기정 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2010.08 학술대회자료
DC 마그네트론 스퍼터법으로 Al 박막의 형성 시 실시간 전기저항 측정에 대한 연구
권나현 ,  하상훈 ,  박현철 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2010.02 학술대회자료

초록· 키워드

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Ultra-thin aluminum (Al) and tin (Sn) films were grown by dc magnetron sputtering on a glass substrate. The electrical resistance R of films was measured in-situ method during the film growth. Also transmission electron microscopy (TEM) study was carried out to observe the microstructure of the films. In the ultra-thin film study, an exact determination of a coalescence thickness and a continuous film thickness is very important. Therefore, we tried to measure the minimum thickness for continuous film (dmin) by means of a graphical method using a number of different y-values as a function of film thickness. The raw date obtained in this study provides a graph of in-situ resistance of metal film as a function of film thickness. For the Al film, there occurs a maximum value in a graph of in-situ electrical resistance versus film thickness. Using the results in this study, we could define clearly the minimum thickness for continuous film where the position of minimum values in the graph when we put the value of Rd3 to y-axis and the film thickness to x-axis. The measured values for the minimum thickness for continuous film are 21 nm and 16 nm for sputtered Al and Sn films, respectively. The new method for defining the minimum thickness for continuous film in this study can be utilized in a basic data when we design an ultra-thin film for the metallization application in nano-scale devices.
#$underline{in-situelectricaresistance}$ #ultra-thin film #coalescence thickness #continuous film thickness #film growth

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X. Wang / 2006 / Thin Solid Films 510:82 google schola J. J. Valenzuela-Jáuregui / 2004 / Vacuum 76:177 google schola K. Schroder / 2004 / Thin Solid Films 458:322 google schola D. K. Aswal / 2006 / Phys. Status Solidi 203(6):1254 google schola D. Makarov / 2007 / Surf. Sci 601:2032 google schola

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