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학술대회자료
저자정보
강필규 (고려대학교 재료공학과) 진정근 (고려대학교 재료공학과) 강호재 (고려대학교 재료공학과) 노대호 (고려대학교 재료공학과) 안재우 (대진대학교 신소재공학과) 변동진 (고려대학교 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회 학술발표대회 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
발행연도
2003.1
수록면
171 - 171 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2003

MOCVD법과 MOD법으로 제작된 TaO 박막의 열처리 온도에 따른 유전특성연구
강필규 ,  진정근 ,  변동진 외 2명 한국재료학회지 2003.01 학술저널
CVD법으로 제작한 $_{(1-x)}Ta_2O_{5-x}TiO_2$ 박막의 열처리 온도에 따른 특성변화
강필규 ,  진정근 ,  강호재 외 3명 한국재료학회 학술발표대회 2003.01 학술대회자료
열처리 온도에 따른 $Ta_2O_5$ 박막의 특성변화
강필규 ,  진정근 ,  노대호 외 1명 한국재료학회 학술발표대회 2003.01 학술대회자료

초록· 키워드

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공정기술의 향상으로 DRAM(dynamic random acess memory)의 고집적화가 이루어지고 있으며, 각 개별소자 및 셀 영역의 점유면적의 감소가 요구되어지고 있다. 따라서 기존에 사용하던 NO (Si$_3$N$_4$/SiO$_2$)박막보다 유전율이 높은 고유전물질에 대한 연구가 진행되고 있다. Ta$_2$O$_{5}$, $Y_2$O$_3$, HfO$_2$, ZrO$_2$,Nb$_2$O$_{5}$, BaTiO$_3$, SrTiO$_3$ 및 (BaSr)TiO등이 고유전물질로 연구되고 있는데 그 중 공정의 안정성, 누설전류의 우수성으로 인해 Ta$_2$O$_{5}$이 많이 연구되고 있다. 본 실험에서는 TiO$_2$가 8 mol%가 첨가된 Ta$_2$O$_{5}$의 열처리 온도에 따른 전기적, 유전특성을 살펴보려고 한다살펴보려고 한다

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