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저자정보
우태규 (전북대학교 공과대학 신소재공학부 및 공업기술연구센터) 박일송 (전북대학교 공과대학 신소재공학부 및 공업기술연구센터) 이현우 (전북대학교 공과대학 신소재공학부 및 공업기술연구센터) 설경원 (전북대학교 공과대학 신소재공학부 및 공업기술연구센터)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제16권 제11호
발행연도
2006.1
수록면
710 - 714 (5page)

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The purpose of this study is to identify the effect of additives and composition on copper surface morphology and mechanical characteristics by copper electrodeposition. Additives such as hydroxy ethyl cellulose(HEC), chloride ion were used in this study. Electrochemical experiments allied to SEM, XRD, AFM and four- point probe were performed to characterize the morphology and mechanical characters of copper in the presence of additives. Among various electrodeposition conditions, the minimum surface roughness of copper foil was obtained when electrodeposited at the current density of 200 mA/$cm^2$ for 68 seconds with 2 ppm of HEC. The minimum value of surface roughness(Rms) was 107.6 nm. It is copper foil is good for electromigration inhibition due to preferential crystal growth of Cu (111) deposited in the electrolyte containing chloride ions(10 ppm) and HEC(1 ppm).

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