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저자정보
Kim, Kyong-Nam (Department of Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University) Lim, Jong-Hyeuk (Department of Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University) Yeom, Geun-Young (Department of Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
발행연도
2006.1
수록면
544 - 547 (4page)

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In this study, the characteristics of large area internal linear ICP sources of $1,020mm{\times}920mm$ (substrate area is $880mm{\times}660mm$) were investigated using a multiple linear antennas with U-type parallel connection. Using the multiple linear antennas with U-type parallel connection, a high plasma density of $2{\times}10^{11}/cm^3$ and a high power transfer efficiency of about 88% could be obtained at 5kW of RF power and with 20mTorr Ar. A low plasma potential of less than 26V and a low electron temperature of $2.6{\sim}3.2eV$ could be also obtained. The measured plasma uniformity on the substrate size of 4th generation $(880mm{\times}660mm)$ was about 4%, therefore, it is believed that the multiple linear antennas with U-type parallel connection can be successfully applicable to the large area flat panel display processing.

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