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저자정보
김지은 (한양대학교 자연과학대학 나노융합과학과) 김정환 (한양대학교 공과대학 신소재공학과) 홍성철 (한양대학교 공과대학 신소재공학과) 조한구 (한양대학교 나노과학기술연구소) 안진호 (한양대학교 공과대학 신소재공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제15권 제1호
발행연도
2016.1
수록면
6 - 11 (6page)

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For high volume manufacturing using extreme ultraviolet (EUV) lithography, mask protection from contamination during lithography process must be solved, and EUV pellicle is the strongest solution. Based on the technical requirements of EUV pellicle, EUV pellicle should have large membrane area ($110{\times}140mm^2$) with film transmittance over 90% and mechanical stability. Even though pellicle that satisfies size standard with high transmittance has been reported, its mechanical stability has not been confirmed, nor is there a standard to evaluate the mechanical stability. In this study, we suggest a rather simple method evaluating mechanical stability of pellicle membrane using spin-coater which can emulate the linear accelerated motion. The test conditions were designed by simulating the acceleration distribution inside pellicle membrane through correlating the linear acceleration and centripetal acceleration, which occurs during linear movement and rotation movement, respectively. By these simulation results, we confirmed the possibility of using spin-coater to evaluate the mechanical stability of EUV pellicle.
#EUV pellicle #thin film #mechanical stability #spin-coater

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참고문헌 (13)

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B. Wu / 2007 / Extreme ultraviolet lithography: A review / J. Vac. Sci. Technol. B 25(6):1743~1761 google schola H. Meiling / 2004 / Progress in the ASML EUV program / Proc. of SPIE 5374(PART 1):31~42 google schola I. S. Kim / 2013 / Study of temperature behaviors for a pellicle in extreme-ultraviolet lithography: Mesh structure / Jpn. J. Appl. Phys 52(12) google schola K.H. Ko / 2014 / Imaging performance of mesh supported pellicle for extreme ultraviolet lithography / Jpn. J. Appl. Phys 53(6) google schola L. Scaccabarozzi / 2013 / Investigation of EUV pellicle feasibility, Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IV / Proc. of SPIE 8679 google schola

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