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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Vol.38 No.6
- 발행연도
- 2021.6
- 수록면
- 405 - 415 (11page)
- DOI
- 10.7736/JKSPE.021.015
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Equipment used in the semiconductor manufacturing process generally have a flow rate control system for each nozzle to regulate the flow rate of chemical solution fed to the wafer. In existing flow rate control systems, flow rate overshoots occur because of excess pressure and the control rates of the overshoots are less because additional operation time is required for the electric valves. In this study, to address the shortcomings of existing flow rate control systems, we proposed a method to improve the speed of flow rate control by introducing a constant pressure valve. The constant pressure valve controls the flow path via gas pressure, thereby facilitating prompt control and efficiently improving the flow rate overshoot caused by the pressure overshoot. To improve the control speed and control stability of the constant pressure valve, a three-step automatic control speed application function was developed, and the measured valve, control amount mapping function, and pre-open function were defined to reduce the initial control speed. The experimental results showed a measurement precision within 1% of the target flow rate and stable control performance as well as control speed reduction from 3 seconds in existing systems to 2 seconds or less for the proposed system.
목차
1. 서론
2. 유량 제어장치 개발
3. 유량 제어장치 제어 성능 향상
4. 유량 제어 성능 실험
5. 결론
REFERENCES
참고문헌 (9)
참고문헌 신청
Bae, I. J. and Lee, E. S., “Improvement of Measuring Stability of Amplitude Attenuation by the Bubble in Ultrasonic Flow-Meter for Semiconductor Process,” Journal of the Korean Society for Precision Engineering, Vol. 36, No. 9, pp. 843-849, 2019.
Bae, I. J., “Improvement of Measurement Error by Chemical Solution Temperature Change Using Waveform A/D Conversion of Ultrasonic Flow-Meter for Semiconductor Manufacturing Process,” Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers, Vol. 28, No. 5, pp. 306-312, 2019.
Kim, J. W., Hong, K. J., Cho, H. C., Kim, K. S., Kim, D. Y., et al., “A Study on Design of Intelligent Wet Station for Semiconductor,” Journal of the Semiconductor & Display Technology, Vol. 4, No. 3, pp. 29-33, 2005.
Gu, X. and Cegla, F., “The Effect of Internal Pipe Wall Roughness on the Accuracy of Clamp-On Ultrasonic Flowmeters,” IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement, Vol. 68, No. 1, pp. 65-72, 2018.
Yun, S. and Lee, K., “Digital Control of Electro-Pneumatic Regulator with Two Piezoelectric Microvalves,” Journal of Drive and Control, Vol. 5, No. 2, pp. 17-23, 2008.
Bae, I. J., “Improvement of Measurement Error by Chemical Solution Temperature Change Using Waveform A/D Conversion of Ultrasonic Flow-Meter for Semiconductor Manufacturing Process,” Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers, Vol. 28, No. 5, pp. 306-312, 2019.
Kim, J. W., Hong, K. J., Cho, H. C., Kim, K. S., Kim, D. Y., et al., “A Study on Design of Intelligent Wet Station for Semiconductor,” Journal of the Semiconductor & Display Technology, Vol. 4, No. 3, pp. 29-33, 2005.
Gu, X. and Cegla, F., “The Effect of Internal Pipe Wall Roughness on the Accuracy of Clamp-On Ultrasonic Flowmeters,” IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement, Vol. 68, No. 1, pp. 65-72, 2018.
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