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저자정보
최종윤 (한국산업기술대학교) 이건우 (한국산업기술대학교) 나영채 (한국산업기술대학교 IT반도체융합공학과) 김정현 (한국산업기술대학교) 이재은 (한국산업기술대학교 나노반도체공학과) 최지혁 (한국산업기술대학교 나노반도체공학과) 이성남 (한국산업기술대학교)
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제35권 제1호
발행연도
2022.1
수록면
80 - 85 (6page)

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ZnO-based transparent conductive films have been widely studied to achieve high performance optoelectronic devices such as next generation flexible and transparent display systems. In order to achieve a transparent flexible ZnO-based device, a low temperature growth technique using a flexible polymer substrate is required. In this work, high quality flexible ZnO films were grown on colorless polyimide substrate using atomic layer deposition (ALD). Transparent ZnO films grown from 80 to 200℃ were fabricated with a metal-semiconductor-metal structure photodetectors (PDs). As the growth temperature of ZnO film increases, the photocurrent of UV PDs increases, while the sensitivity of that decreases. In addition, it is found that the response times of the PDs become shorter as the growth temperature increases. Based on these results, we suggest that high-quality ZnO film can be grown below 200℃ in an atomic layer deposition system, and can be applied to transparent and flexible UV PDs with very fast response time and high photocurrent.
#Photodetector #Zinc oxide #Atomic layer deposition #Flexible substrate #Colorless polyimide

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