불규칙 패턴 에칭에 의한 표면 형상 제어와 광학적 특성

김성수; 이정우; 전법주

doi:https://doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.12.800

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김성수 ((주)가인공영) 이정우 (신한대학교 에너지환경공학과) 전법주 (신한대학교)

저널정보: 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제30권 제12호

발행연도: 2017.12

수록면: 800 - 805 (6page)

DOI: https://doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.12.800

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디스플레이 글라스의 anti glare 표면처리를 위해 습식화학에칭방식을 적용한 불규칙 스크린 패턴에칭과 2차 용액표면에칭을 수행하고 grain size제어와 불규칙패턴에칭에 따른 표면 morphology의 변화인 표면특성과 광학적 특성을 비교하였다. 닥터블레이드와 스크린패턴에칭을 적용한 겔상태의 1차 에칭에 의한 표면조도는 닥터블레이드방식의 경우 표면조도가 낮게 나타났으며 유리기판의 종류를 달리할 경우 기판의 조성에 의해 표면 에칭반응 메커니즘과 생산과정에 기판의 결정도가 변하여 에칭정도는 에칭방법과 유리기판 종류에 의존성이 큼을 알 수 있었다. 1차 불규칙패턴에칭에 의한 표면조도의 변화는 부식액에 의한 패턴형성과 크기에 영향을 주는 mesh size에 크게 의존하였다. 2차 용액에칭은 에칭반응시간과 농도변화에 영향을 받았으나 1차 불규칙 패턴에칭된 조직의 크기에 영향을 주는 mesh size에 의존성이 크게 나타났다. 영상의 선명도에 영향을 주는 표면 광택도는 1차 에칭에서 mesh size가 작을수록, 2차 에칭에서 반응시간이 증가할수록 표면에 형성된 grain size가 감소하여 높게 나타났다.

#Anti glare #Randomly patterned etching #Etching solution #Surface morphology #Gloss

참고문헌 (4)

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Makoto Sekine / 2002 / Dielectric film etching in semiconductor device manufacturing / Applied Surface Science 192(1-4):270~298

이철태 / 2016 / 평판디스플레이용 유리의 박판화공정을 위한 비불산형 식각액 / 공업화학 27(1):101~109

G. A. C. M. Spierings / 1993 / Wet chemical etching of silicate glasses in hydrofluoric acid based solutions / Journal of Materials Science 28(23):6261~6273

김성수 / 2015 / 디스플레이 커버 글라스의 표면 처리에 의한 광학요소 제어 / 전기전자재료학회논문지 28(9):607~614

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