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자료유형
학술저널
저자정보
Barcelo Steven (Hewlett Packard Enterprise) Li Zhiyong (Hewlett Packard Enterprise)
저널정보
나노기술연구협의회 Nano Convergence Nano Convergence Vol.3 No.21
발행연도
2016.9
수록면
1 - 9 (9page)
DOI
10.1186/s40580-016-0081-y

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Nanoimprint lithography (NIL) is a compelling technique for low cost nanoscale device fabrication. The precise and repeatable replication of nanoscale patterns from a single high resolution patterning step makes the NIL technique much more versatile than other expensive techniques such as e-beam or even helium ion beam lithography. Furthermore, the use of mechanical deformation during the NIL process enables grayscale lithography with only a single patterning step, not achievable with any other conventional lithography techniques. These strengths enable the fabrication of unique nanoscale devices by NIL for a variety of applications including optics, plasmonics and even biotechnology. Recent advances in throughput and yield in NIL processes demonstrate the potential of being adopted for mainstream semiconductor device fabrication as well.
#PDMS Sapphire Substrate Microlens Array Nanoscale Device Nanoimprint Lithography

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Z. D. Popovic / 1988 / Appl. Opt 27:1281 google schola D. Daly / 1990 / Meas. Sci. Technol 1:759 google schola L. Jacot-Descombs / 2015 / Opt. Expr 23:25365 google schola W. C. Cheong / 2004 / Appl. Phys. Lett 85:5784 google schola M. Lee / 2014 / Langmuir 30:1210 google schola

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