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이용수3
1. 서 론 11.1 연구 배경 11.2 연구 동향 및 목적 52. 이론적 배경 82.1 CMP 공정의 특징 82.2 CMP 공정의 종류 102.3 산화막 CMP의 메커니즘 112.4 산화막 CMP용 슬러리 142.4.1 퓸드 실리카 162.4.2 콜로이달 실리카 193. 콜로이달 실리카 슬러리 제조 223.1 개발배경 223.2 콜로이달 실리카 제조방법 273.2.1 이론적 제조방법 273.2.2 실리카 입자 분석법 303.2.3 이온교환법을 이용한 콜로이달 실리카 제조 333.2.4 가압방법을 이용한 콜로이달 실리카 제조 373.2.5 다단계 주입방법을 이용한 콜로이달 실리카 제조 404. 슬러리의 CMP 특성 444.1 실험 방법 및 조건 444.1.1 실험 조건 및 장치 444.1.2 연마율과 연마균일도 측정원리 484.2 상용화 슬러리의 연마특성 494.3 이온교환법으로 제조한 슬러리의 연마특성 534.4 가압방법으로 제조한 슬러리의 연마특성 554.5 다단계 주입방법으로 제조한 슬러리의 연마특성 574.6 슬러리의 실리콘 웨이퍼 연마특성 604.7 슬러리의 결함 특성 실험 644.8 결과 및 고찰 705. 결 론 75참고 문헌 77Abstract 80
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