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논문 기본 정보

자료유형
학위논문
저자정보

윤용수 (부산대학교, 부산대학교 대학원)

지도교수
이호준
발행연도
2016
저작권
부산대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.

이용수1

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

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There are several problems, micro arc discharges, remaining static electricity in cleaning, dry etching and sputtering process which use plasma. These problems causing breakdown of process materials and damage to electric device can increase fraction defective. Accumulation of charges that ease in relatively long time on substrate surface make remaining static electricity observed well at surface of dielectric substrate used for the insulation purpose. In this study, we measured electric potential profile transiting in time of substrate surface in capacitively coupled plasma source chamber structured cylinderical parallel-plates electrode. In similar and smaller geometry, Fluid simulation is conducted to compare with measurement. Consequentially, The remaining time, sign(+,-) and voltage level of static electricity after turning off plasma depend on geometry and capacitance of dielectric substrate.

목차

1. 서론 1
2. 이론적 배경 3
2-1. 플라즈마 3
2-2. 용량결합형 플라즈마 발생장치 7
2-3. 플라즈마 세정공정 10
3. 실험 장치 및 시뮬레이션 방법 16
3-1. 용량결합형 플라즈마 발생 장치 실험 개요 16
3-2. 유체 시뮬레이션(Fluid simulation) 19
4. 실험 및 시뮬레이션 결과 24
4-1. 용량결합형 플라즈마 장치에서 측정한 기판표면 전위 24
4-2. 유체 시뮬레이션에서 나타나는 기판과 전극부분의 전위분포 24
5. 결론 39
6. 참고 문헌 41

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