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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 서용석
- 발행연도
- 2019
- 저작권
- 전북대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수4
이 논문의 연구 히스토리 (5)
2019
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This paper introduces a novel method to reduce the voltage stress experienced by Electrical Variable Capacitor (EVC) circuit of 320V/1kW/13.56MHz having an asymmetrical switch configuration applied in impedance matching circuit of RF plasma system. The method employs a symmetrical switch configuration in place of an asymmetrical switch configuration in each of the capacitor leg in the EVC circuit. The proposed idea successfully reduces the voltage stress in the EVC circuit owing to symmetrical charging and discharging mode and can be applied in the impedance matching circuit of high-power and high-frequency RF plasma system. The proposed circuit topology is effectively supported by simulation and experiment which have successfully verified that the voltage stress on the switch of the EVC circuit is reduced by more than 40%.
목차
1. Introduction 12. Variable Capacitor and Impedance Matching in RF Plasma Systems 43.Two Types of Electrical Variable Capacitor Circuit 114. Circuit Analysis on Two Types of Electrical Variable Capacitor Circuit 175. Simulation and Experiment Verification Results 306. Conclusion 41References 43요약(국문초록) 47
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