유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge, DBD) 형태의 대기압 플라즈마 젯 장치를 사용하여 플라즈마의 특성을 진단하고, 재료에서의 표면처리 효과를 알아보았다. 50 kHz의 저주파 고전압을 인가하고 주 방전 기체로 헬륨(He) 을 사용하여 플라즈마를 발생시켜 인가전압(1.3~1.9 kVpp), 듀티 비(5~50%), 산소 첨가량(5~40 sccm) 등 다양한 구동 조건에서 플라즈마의 특성 변화를 관찰하였다. 인가전압이 증가할수록 플라즈마 플룸의 길이는 증가하였고, 듀티 비 8%에서 가장 길게 뻗어 나왔다. 헬륨 기체에 대한 산소의 첨가량이 증가할수록 플라즈마의 방전은 약해지고 20 sccm부터 플룸의 길이가 눈에 띄게 감소하였다. 기체 온도는 다양한 조절변수에서 30~40℃로 유지되어 저온 플라즈마임을 확인하였다. 오존의 발생량은 최대 1.4 ppm으로 측정되었고, 산소를 첨가함에 따라 급격하게 증가하였다. 전압-전류 파형을 통해 방전 전류와 전력을 계산한 결과, 듀티 비 8%에서 순간 전력 값이 가장 높았다. 광 방출 분광법 (Optical Emission Spectroscopy, OES) 을 이용하여 대기와의 충돌로 인해 생성된 대표적인 활성 종(NO, OH, N2, N2+, O 등) 을 확인하였다. 볼츠만 플롯 방법(Boltzmann plot method)을 통해 전자여기온도를 계산하여 플라즈마의 중요 변수인 전자온도의 경향을 확인할 수 있었다. 플라즈마의 특성을 진단한 결과를 바탕으로 액체 및 재료에서의 표면처리 효과를 알아보았다. 플라즈마 처리된 액체인 증류수(Deionized water, DW) 내에서 생성된 활성 종의 농도를 정량적으로 비교하였으며, 처리 시간에 따른 pH 및 전도도를 측정하였다. 표면 처리를 위한 재료로는 폴리스티렌(Polystyrene) 과 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide) 을 사용하였고, 접촉각을 측정하여 친수성 효과를 확인하고 표면에너지를 알아보았다. 플라즈마 처리로 ITO의 면저항은 감소하고, 광 투과도에는 큰 영향을 끼치지 않으며 ITO 표면의 화학적 조성 변화를 확인한 결과, O-H의 증가가 접촉각 감소에 상관관계가 있음을 보았다. 이를 통해 저주파에서 동작하는 유전체 장벽 방전 플라즈마가 액체와 재료 표면에 영향을 미치는 것을 확인하고 플라즈마 방전 특성과의 상관관계를 알아보았다.
This paper has investigated the characteristics of dielectric barrier discharge (DBD) jet and its effect on surface treatment on materials and liquids. A DBD jet generated a helium plasma by applying a DC voltage at a low frequency (50 kHz) and compared plasma characteristics by plasma control parameters (such as applied voltage, duty ratio, additive oxygen gas). Plasma plume length, gas temperature, electron excitation temperature, discharge current, power, and optical emission spectrum were depended on plasma control parameters. Atmospheric pressure plasma (APP) treatment of liquids results in activation and non-equilibrium dissociation of water molecules, forming the short-lived species (~ ns) such as H atoms, OH radicals. Chemical reactions between these species form stable species, such as H2O2, NO2- NO3- and O3. Reactive oxygen and nitrogen species (RONS) produced by the plasma can produce more RONS in the liquid. The concentrations of H2O2, NO2- NO3- and O3 in plasma-treated DW was obtained with a UV-Vis spectrophotometer. Additionally, we confirmed the pH value decreased and the conductivity increased with the treatment time. Plasma treatment of materials is considered one of the methods to improve electrical properties in various surface treatment techniques. To obtain higher electrical conductivity, it should enhance either the free carriers ions or the carrier mobility. The free carrier ions increase with interstitial metal ion impurities, oxygen vacancies, and doping, and these oxygen vacancies can affect by APP containing oxygen radicals. APP can also be applied to materials to modify the surface. APP was treated on the indium tin oxide (ITO) as a transparent electrode to check the contact angle, surface energy, sheet resistance, transmittance, and chemical changes on the surface. The contact angle decreased from 40°to 12°significantly, and the surface energy increased 56 mJ/m2 to 72 mJ/m2 in the plasma-treated ITO with the treatment time. However, there was no significant difference in transmittance compared to before APP treatment. The sheet resistance decreased after plasma treatment and then slightly increased from 10 seconds. And the chemical changes in the plasma-treated ITO depended on the plasma control parameters and plasma treatment time. The oxygen vacancy of plasma-treated ITO was increased (~ 30 s) and then reduced(~ 120 s) by plasma treatment time, and the oxygen bond of the hydroxide (O-H band) was increased as plasma treatment time increased.
Ⅰ. 서 론 1Ⅱ. 이 론 31. 대기압 플라즈마의 정의 및 분류 32. 대기압 플라즈마의 특성 분석 방법 83. 대기압 플라즈마와 재료 표면의 상호작용 17Ⅲ. 실험 장치 및 실험 방법 221. 대기압 플라즈마 발생장치 및 특성 분석 방법 222. 대기압 플라즈마 처리된 액체에서의 분석 방법 263. 대기압 플라즈마 처리된 재료 표면 분석 방법 27Ⅳ. 실험 결과 291. 대기압 플라즈마의 특성 292. 대기압 플라즈마 처리된 액체에서의 변화 463. 대기압 플라즈마 처리된 재료 표면에서의 변화 50Ⅴ. 토 의 61Ⅵ. 결 론 62참고 문헌 64Abstract 68