낮은 에너지의 As₂^(+) 이온 주입을 이용한 얕은 n^(+)-p 접합을 가진 70nm NMOSFET의 제작 ( 70nm NMOSFET Fabrication with Ultra-shallow n+-p Junctions Using Low Energy As₂^(+) Implantations )

최병용; 성석강; 이용덕; 박병국

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자료유형: 학술저널

저자정보: 최병용 성석강 이용덕 박병국

저널정보: 대한전자공학회 전자공학회논문지-SD 전자공학회논문지 SD편 제38권 제2호

발행연도: 2001.2

수록면: 9 - 16 (8page)

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