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2001 .07
Reactive Ion Etching of InP and InGaP using Cl₂ gas with CH₄ and Ar Addition
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of MgO Thin Films Using a CH4/Ar Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Satistical Analysis of SiO₂ Contact Hole Etching in a Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Reactor
Journal of Magnetics
2010 .09
Etch Characteristics of MgO Thin Films in Cl2/Ar, CH3OH/Ar, and CH4/Ar Plasmas
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2013 .02
Effects of Etch Parameters on Etching of CoFeB Thin Films in CH₄/O₂/Ar Mix
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2010 .12
Fabrication of Microwire Arrays for Enhanced Light Trapping Efficiency Using Deep Reactive Ion Etching
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .02
Multi-crystalline Silicon Solar Cell with Reactive Ion Etching Texturization
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2016 .02
Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma
동굴
2007 .01
The Influence of O₂ Gas on the Etch Characteristics of FePt Thin Films in CH₄/O₂/Ar gas
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Investigation on Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using a CH4/Ar Plasma
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2011 .02
MACEtching (Metal-Assisted Chemical etching)에 의한 GaAs 마이크로 구조 제어 및 메커니즘 연구
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2014 .08
MaCE (Metal-Assisted Chemical etching)에 의한 GaAs 마이크로 구조 제어 및 메커니즘 연구
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2014 .02
플라즈마 식각 공정에서의 미세구조 식각에 관한 이론적 연구
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1994 .03
A study on the ion beam etching characteristics in the high aspect ratio contact
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BCl₃ / O₂/ Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1999 .12
RIE Damage Remove Etching Process for Solar Cell Surface Texturing Using the TMAH Etching
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2012 .02
Effects of Cl₂ or SF6 plasma treatments on removal of residue on reactive ion etched Si surface
한국진공학회 학술발표회초록집
1993 .02
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