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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 1992.6
- 수록면
- 18 - 35 (18page)
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Advanced Micro Devices에서는 1990년 11월 새로운 Submicron Development Center를 완성하였는데 본 센터는 1990년대의 Wafer Fabrication Facilities의 기술적 목표와 목적을 달성하기 위한 세계적으로 가장 발전된 시설중의 하나에 속하며, 이러한 첨단 시설을 통해서 클린룸설계, 제조물질, 초순수기술, 초순도 가스 및 화학물의 분배시스템 등에 있어서의 첨단기술을 확립하고자 한다. 이러한 반도체 제조기술을 확립하기 위한 첨단환경 조건을 만족시키기 위하여 0.1㎛ 입자크기 기준의 36,000ft² 규모의 Class 1 클린룸이 건설되었으며, 이러한 시설을 이용하여 크게 3가지 분야의 총 17가지 세부기술의 규제 목표를 설정하고 조사하였다.
목차
[번역문] Submicron Manufacturing을 위한 첨단 환경조건
[원문] An Advanced Facilities Environment for Submicron Manufacturing
SUBMICRON DEVELOPMENT CENTER
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