Power Dissipation in a RF Capacitively Coupled Plasma

T. H. T ,  an ,  S. J. You 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

CF4를 적용한 3차원 반도체용 ICP 방전에서 heat, flow, eedf를 고려한 시뮬레이션

Dong-Gil Kim ,  Ye Jin Shon ,  So 외 5명

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2019 .08

Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08

STUDY OF NON - MONOTONOUS EEDF IN LOW PRESSURE PLASMA SOURCES

Antonova T.B. ,  Boug ,  ov G.E. 외 12명

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1996 .06

유도결합형 플라즈마 방전 시뮬레이션에서 EEDF를 플라즈마 전체 영역에 적용시킬 수 있는 개선된 새로운 방법

이소라 ,  손예진 ,  권득철 외 1명

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2020 .02

EEDF를 통한 전자빔 플라즈마 특성 연구

채수항 ,  서상훈 ,  장홍영

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2006 .02

2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구

김창호 ,  허민영 ,  김진석 외 1명

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2018 .02

대면적 Capacitively Coupled Plasma에서 Multi power feeding에 따른 Plasma uniformity 변화

유광호 ,  나병근 ,  유대호 외 2명

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2010 .02

Capacitively Coupled, RF Excited CH₄ Plasma 에서의 Particle 발생및 그 특성에 관한 연구

연충규 ,  황기웅

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1994 .02

Plasma Diagnostics using Optical Emission Spectroscopy on Argon Capacitively Coupled Plasma with Various Line-of-Sight

Jaemin Song ,  Jongsik Kim ,  Dae Chul Kim 외 6명

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2019 .08

Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  박영록 ,  김진성 외 4명

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2008 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

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2017 .08

Frequency dependence of electron energy distribution function and plasma parameters in capacitively coupled argon discharge

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2005 .08

상압에서 capacitively couple plasma type의 capillary electrode discharge를 이용한 glow discharge plasma의 특성연구

이창헌 ,  이용혁 ,  김동우 외 1명

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2001 .07

Role of gas flow rate during etching of hard-mask layer to extreme ultra-violet resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  이정훈 ,  이내응

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2010 .08

2차원 유도결합형 플라즈마 방전에서 전자 에너지 분포 함수, 유체의 흐름 및 열전달을 고려한 시뮬레이션

Yejin Shon ,  Dong-Gil Kim ,  So 외 4명

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2019 .08

Initial Study of Electron Temperature and Density Simulation on Capacitively Coupled RF He Plasma

Deokho Hwang ,  Sanghyeok Pa ,  k 외 7명

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2019 .08

Development of an Improved Numerical Methodology for Design and Modification of Large Area Plasma Processing Chamber

김호준 ,  이승무 ,  원제형

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2014 .02

Highly selective etching of silicon nitride to CVD a-C in dual-frequency capacitively coupled CH₂F₂/H₂plasmas

김진성 ,  권봉수 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

SF6-Free 차단부의 대전류 아크 플라즈마 전산해석

임종빈 ,  이원호 ,  김연주 외 1명

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2019 .08