Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  정창룡 ,  이내응 외 1명

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2010 .02

Role of CH2F2 and N-2 Flow Rates on the Etch Characteristics of Dielectric Hard-mask Layer to Extreme Ultra-violet Resist Pattern in CH2F2/N2/Ar Capacitively Coupled Plasmas

B. S. Kwon ,  J. H. Lee ,  N. E. Lee

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2011 .02

Etching characteristics of DLC-hard mask using dual frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

H. T. Kim ,  B. S. Kwon ,  N.-E. Lee 외 2명

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2007 .02

Frequency effect of TEOS oxide layer in dual-frequency capacitively coupled CH2F2/C4F8/O2/Ar plasma

J. H. Lee ,  B. S. Kwon ,  N.-E. Lee

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2011 .02

Highly selective etching of silicon nitride to CVD a-C in dual-frequency capacitively coupled CH₂F₂/H₂plasmas

김진성 ,  권봉수 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

Effects of CH₂F₂ and H₂ flow rates on process window for infinite etch selectivity of silicon nitride to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled plasmas

김진성 ,  권봉수 ,  안정호 외 2명

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2009 .02

Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers

박창기 ,  김희대 ,  이춘희 외 1명

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2006 .08

Power Dissipation in a RF Capacitively Coupled Plasma

T. H. T ,  an ,  S. J. You 외 3명

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2013 .02

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

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2017 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

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2018 .02

Selective etching of SiO₂ using embedded RF pulsing in a dual-frequency capacitively coupled plasma system

염원균 ,  전민환 ,  김경남 외 1명

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2015 .08

2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구

김창호 ,  허민영 ,  김진석 외 1명

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2018 .02

Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled C₄F₈/CH₂F₂/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  김진성 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

대면적 Capacitively Coupled Plasma에서 Multi power feeding에 따른 Plasma uniformity 변화

유광호 ,  나병근 ,  유대호 외 2명

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2010 .02

Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  박영록 ,  김진성 외 4명

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2008 .08

Comparison of etching characteristics of ArF and EUV photoresists in dual-frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

B. S. Kwon ,  H. W. Kim ,  H. J. Lee 외 3명

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2008 .02

낮은 GWP의 C₃H₂F₆ 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구

탁현우 ,  장준기 ,  성다인 외 4명

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2020 .02

Frequency dependence of electron energy distribution function and plasma parameters in capacitively coupled argon discharge

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2005 .08