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이용수
Abstract
1. 서론
2. 입지조건 및 영향 평가
3. 진동해석 및 평가
4. 시공기술
5. 결론
참고문헌
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Process Technology for Next Generation Photomask
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2012 .04
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2009 .01
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광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )
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1996 .11
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한국소음진동공학회 학술대회논문집
2014 .10
포토마스크 공정의 Plasma Etching 시 발생하는 Alumina Particle 개선
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2014 .05
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2009 .10
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[ETRI] ETRI Journal
2005 .04
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2012 .11
Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity and Process Margin in Optical Lithography
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
능동형 진동제어를 위한 초정밀 마이크로 스테이지
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
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Optimum Photomask Design for Maximum Fidelity and Process Margin with a Monte-Carlo Method
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Micro Pump 조립을 위한 Miro Factory System 통합 제어
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