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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 1996년도 추계종합학술대회 논문집(B) Vol.19 No.2
발행연도
1996.11
수록면
1,277 - 1,279 (3page)

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1996

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계
오용호 ,  이재철 ,  임성우 대한전자공학회 학술대회 1996.11 학술대회자료
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오용호 ,  임성우 ,  이재철 대한전자공학회 학술대회 1996.11 학술대회자료

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목차

요약
1. 서론
2. 광리소그래피에서의 결상 왜곡
3. 포토마스크 역설계 프로그램
4. 프로그램 수행 결과의 예
5. 결론
감사의 글
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